Меню

Установка электронно лучевого напыления

Установка электронно-лучевого напыления

  • Вакуумный откачной пост EVS-EMT2200MK-EV-S50P мобильного исполнения
  • Имитаторы космоса
  • Нестандартные вакуумные системы по Вашему техническому заданию
  • Системы вакуумной пайки ERSTEVAK
  • Системы центрального вакуума
  • Установки вакуумной инфузии
  • Установки дегазации
  • Системы вакуумного прессования
  • Высоковакуумные откачные системы
  • Установки молекулярно-лучевой эпитаксии
  • Вакуумные откачные посты
  • Cистемы для получения высокого и сверхвысокого вакуума
  • Вихревые воздуходувки
  • Роторные воздуходувки
  • Турбовоздуходувки
  • Центробежные высоконапорные вентиляторы
  • Высоковакуумная арматура, клапаны, комплектующие MDC Vacuum
  • Вакуумная арматура King Lai
  • Вакуумные затворы ERSTEVAK
  • Вакуумные затворы King Lai
  • Вакуумные клапаны ERSTEVAK
  • Вакуумные клапаны King Lai
  • Элементы вакуумных систем в наличии
  • Климатические камеры тепла-холода-влаги
  • Камеры тепла-холода-влаги специальной серии
  • Камеры тепла и холода глубокой заморозки
  • Камеры тепла-холода-влаги «Walk-In»
  • Камеры солевого тумана
  • Сушильные шкафы
  • Камеры термоудара
  • Безэховые камеры
  • Испытательные комплексы
  • Камеры дождя
  • Камеры светового старения
  • Термобарокамеры
  • Печи для термообработки металлов и сплавов
  • Печи для порошковой металлургии
  • Печи химико-термической обработки
  • Печи для металлургии
  • Печи для композитных материалов
  • Вспомогательное оборудование
  • Вакуумно-водородные печи ERSTEVAK
  • Вакуумные печи для опытно-промышленных производств
  • Встраиваемая линия напыления
  • Высоковакуумная (UHV) установка напыления
  • Изготовление оборудования под заказ
  • Кластерные системы
  • Оборудование для производства OLED/OPV-дисплеев
  • Процесс PVD — физическое паровое напыление
  • Система для производства солнечных батарей (CIGS)
  • Установка LPCVD химического осаждения из газовой фазы
  • Установка PECVD химического осаждения из газовой фазы (стимулированное плазмой)
  • Установка атомно-слоевого осаждения (ALD)
  • Установка напыления с DC/RF магнетроном
  • Установка сухого травления (Dry Etch)
  • Установка термического испарения
  • Установка электронно-лучевого напыления

Установка электронно-лучевого напыления – оборудование, предназначенное для нанесения тонких пленочных составов методом электронно-лучевого воздействия в вакуумной среде. Равномерность нанесения покрытия обеспечивается на уровне менее 3%. Агрегаты комплектуются электронно-лучевым испарителем, системой вакуумных насосов и измерительными датчиками.

Установки предусматривают наличие нескольких тиглей с последовательным принципом включения. Контроль толщины наносимого слоя осуществляется с помощью кварцевого датчика с замкнутым контуром. Процесс напыления полностью автоматизирован.

Источник



Система электронно-лучевого напыления упрощенной конфигурации STE EB48

Система электронно-лучевого напыления для проведения стартовых исследовательских работ по выбору и оптимизации многослойных тонкопленочных покрытий

  • Безмаслянная система откачки на основе ионного насоса;
  • Система прогрева рабочей камеры до 150°С;
  • Рабочая камера из нержавеющей стали с уплотнениями типа ConFlat;
  • Двухпозиционный кварцевый толщиномер;
  • Манипулятор подложки с возможностью изменения расстояния подложка-испаритель в пределах 205-400 мм;
  • Полуавтоматизированный процесс откачки/вскрытия рабочей камеры посредством цифровых и аналоговых интерфейсов;
  • Вращение образцов;
  • Возможность установления терморезистивного испарителя.

Установка STE EB48 является специально разработанной системой электронно-лучевого напыления упрощенной конфигурации для проведения стартовых исследовательских работ по выбору и оптимизации многослойных тонкопленочных покрытий, наносимых на полупроводниковые пластины методом электронно-лучевого испарения в высоком или сверхвысоком вакууме. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины: 150 мм. По выбору заказчика установка может комплектоваться держателями для установки пластин диаметром 2″, 3″, 100 мм, 150 мм, 3×2″ либо образцов произвольной формы.

Источник

Публикации: Прочее (рубрикатор)

Новое поколение российских установок электронно-лучевого напыления

Автор(ы): А. Алексеев , А. Филаретов , О. Курносова , С. Александров

Разработка систем электронно-лучевого напыления для осаждения сверхчистых покрытий не просто новая область развития техники, но и важнейшее направление аналитического приборостроения в России.

Сравнивая основные методики физического осаждения металлов с методом электронно-лучевого напыления, необходимо выделить основное преимущество электронного луча – прецизионная чистота исполнения, имеющая три важнейшие для современных технологий составляющие:

  • Конструкции промышленных и исследовательских электронно-лучевых испарителей совместимы с системами, обеспечивающими уровень предоперационного вакуума в камере не хуже 1х10 -11 мм.рт.ст., что позволяет совмещать электронно-лучевое напыление с методиками молекулярно-пучковой эпитаксии. Стоит отметить, что вакуумные системы прошлых лет обеспечивали предоперационный вакуум на уровне 1х10 -6 мм.рт.ст., в качестве маршевого насоса использовались откачные агрегаты: диффузионный либо турбомолекулярный насосы со смазкой подшипников ротора. При типичных скоростях осаждения металлов – 1 -10 нм/сек и давлении остаточных газов в камере напыления – 1х10 -6 мм.рт.ст., содержание загрязняющих примесей в слое металла могло достигать до 10%, что критично для корректного функционирования контакта микроэлектронного прибора. В этой связи использование совместно с электронно-лучевым испарителем вакуумных систем с безмаслянными откачными агрегатами с уровнем предоперационного вакуума не хуже 1х10 -7 мм.рт.ст необходимо и оправдано.
  • При электронно-лучевом воздействии материал испаряется только из центральной части мишени. Стенки же тигля интенсивно охлаждаются, и разница температур препятствует обмену материала тигля и мишени. Как следствие, в отличие от терморезистивного осаждения, где тигель (или нагреватель) и испаряемая навеска имеют одинаковую температуру, загрязнение материала не происходит.
  • Источником разогрева служат разогнанные электрическим полем электроны. Для сравнения – при магнетронном осаждении используется выбивание частиц мишени ионами газа. В результате возможные попадания включений примесей из потока газа на поверхность подложки могут приводить к загрязнению осаждаемого покрытия.
Читайте также:  Подставка Тулаторгтехника ВСМ 210 M83049

В качестве иллюстрации вышесказанного даны результаты исследований компании ЗАО «Научное и технологическое оборудование» по отработке омических контактов гетероструктурных транзисторов на основе гетероперехода AlGaN/GaN. Эксперименты проводились с использованием нескольких вакуумных установок осаждения металлических покрытий. Отмечено, что сопротивление контактов, полученных на установках с диффузионными насосами (даже усовершенствованного типа с вакуумным маслом Santovac) и терморезистивными испарителями, было в сто раз больше, чем у контактов, полученных с помощью установки STE EB 48 с ионно-распылительным насосом и электронно-лучевым испарителем.

STE EB 48 – наиболее простая по конфигурации исследовательская установка электронно-лучевого напыления. В качестве маршевого используется ионно-распылительный насос производительностью 400 л/сек. Модель имеет небольшой электронно-лучевой испаритель линейного типа с 5-ю тиглями емкостью 2.2 куб.см. каждый. Загрузка образцов осуществляется через вакуумную дверь быстрого доступа, которая и определяет предельный предоперационный вакуум в камере (не лучше 1х10 -9 мм.рт.ст.). Для обеспечения чистоты загрузки образцов предусмотрен перчаточный бокс с инертной атмосферой, подсоединяемый к двери быстрого доступа.

Для загрузки или выгрузки образцов существует возможность установки на STE EB 48 шлюзового устройства. Следует отметить два существенных преимущества использования шлюзового устройства в установках электронно-лучевого напыления. Во-первых, постоянное поддержание низкого давления внутри камеры напыления увеличивает производительность установки. Практика свидетельствует, что используемый в камере напыления STE EB 48 уровень давления ниже 1х10 -7 мм.рт.ст. после загрузки образцов в шлюзовое устройство устанавливается уже через 20 минут. Во-вторых, электронно-лучевой испаритель и непосредственно мишени изолированы от атмосферы. Это важно, т.к. в начале работы испарителя в течение первых 5-15 секунд его детали неконтролируемо разогреваются до температур, достаточных для испарения сконденсированной из атмосферы влаги, если перед этим вся камера установки вскрывалась на атмосферу. Пары воды попадают, в том числе, и на поверхность обрабатываемых образцов и влияют на контактное сопротивление металлизации.

Самый эффективный способ борьбы с осаждением водяного пара из атмосферы при откачке камеры состоит в напуске и поддержании внутри камеры напыления во время вскрытия избыточного давления инертного газа. Однако избежать полностью окисления мишеней даже таким способом не удается. Иными словами, после разгерметизации системы чистая поверхность мишеней испарителя покрывается слоем оксида. В этой связи процессы целесообразно начинать с предварительного освежения поверхности мишеней посредством предраспыления. Это, в свою очередь, приводит к загрязнению атмосферы камеры напыления кислородом и к трате дорогостоящих материалов. Обеспечить сохранность чистоты испарителя и процесса осаждения от влияния разгерметизации установки при загрузке и выгрузке образцов может только шлюзовое устройство.

Рассмотрим электрический контакт на микроуровне. В реальности на поверхности полупроводника находится слой оксида и слой органических загрязнений. Слой оксида является барьерным для протекания тока через контакт. Единственный действенный способ борьбы с оксидом – ионная бомбардировка поверхности полупроводника в вакууме перед напылением. Однако в конструкциях установок электронно-лучевого напыления ионная пушка обычно расположена в одном объеме с испарителем, что не совсем правильно. С одной стороны, пучок ионов разлагает оксид на составляющие, которые разлетаются по камере, оседая на поверхностях, в том числе на мишенях испарителя. (При последующем напылении кислород вновь окажется на поверхности полупроводника в составе первых слоев металлизации). С другой стороны, ионная пушка ионизирует инертный газ, который имеет определенную чистоту. В результате примесь газа так же оседает на поверхности мишени и позже попадает в зону контакта.

Читайте также:  Канализационная насосная станция КНС виды устройство монтаж и обслуживание

В установке STE EB 71 шлюзовая камера предназначена для подготовки образцов перед напылением. В шлюзе установлена ионная пушка. В нём также может быть установлен нагреватель. В результате перед загрузкой в камеру напыления осуществляется независимая очистка и подготовка образцов. При этом загрязнения остаются в шлюзовой камере, которая может быть очищена стационарным прогревом. STE EB 71 – идеальная система электронно-лучевого напыления как для микротехнологии, так и нанопроцессов. Увеличенный объем тиглей (от 7 см 3 — мин. до 15 см 3 — макс.) позволяет планировать работу на установке в соответствии с потребностями мелкосерийного производства. Важным дополнением в установке является также система экранирования для сбора распыленного металла.

Для контроля скорости осаждения металлов используются традиционные системы на основе кварцевого резонатора. Такая методика проста и надежна. Однако площадь датчика составляет не более 1 см 2 , и при помещеннии в поток материала он отражает точечную картину осаждения. Структура факела летящего от испарителя материала сложна и неоднородна, причем утверждение, что центр факела в любой момент времени совпадает с центром образца (образцов), неверно. Следовательно, точечный датчик не может полностью отследить однородность напыления по поверхности пластины. Разумное решение – разместить нескольких датчиков толщины по описывающему образцы треугольнику (или квадрату). В результате оператор всегда сможет определить, в какую сторону для достижения однородного напыления необходимо сместить луч по поверхности мишени. Такая система предусмотрена в модели STE EB 71.

До сих пор обсуждались установки исследовательского типа с возможным применением в мелкосерийном производстве. Все выше изложенные принципы организации установок для сверхчистого электронно-лучевого напыления реализуются и в установках промышленного назначения. Безусловно, система передачи через шлюзовое устройство держателя с большим количеством подложек излишне громоздка и нецелесообразна. В 80-х годах компания Balzers разработала систему разделения шибером большого диаметра камеры электронно-лучевого испарителя и камеры с образцами. При этом электронно-лучевой испаритель всегда находится в вакууме. Однако в конфигурации данной установки ионная пушка расположена в камере электронно-лучевого испарителя, что приводит к неизбежному загрязнению испаряемых материалов. Конструкция установки STE EB 65 позволяет преодолеть вышеуказанный недостаток. В данной модели – ионная пушка для очистки расположена выше шибера, что препятствует загрязнению мишеней продуктами очистки. (Конфигурация вакуумной системы запатентована).

В заключении необходимо отметить, что производители установок электронно-лучевого напыления внимательно отслеживают современные тенденции в исследованиях и производстве приборов микро- и оптоэлектроники и готовы предложить оборудование, отвечающее самым прецизионным требованиям технологического маршрута. Следует отметить также, что нацеленность на развитие нанотехнологий многократно повышает важность чистоты и воспроизводимости отдельных технологических этапов.

Источник

Электронно-лучевая техника

Электронно-лучевая техника – надежные высокотехнологичные системы для Вашего производственного процесса!

Электронно-лучевые установки Штайгервальд Штральтехник [www.steigerwald-eb.de] за многие году эксплуатации в различных отраслях промышленности показали себя в качестве надежного технологического производственного оснащения. Выбор подходящего для Вас типа установки зависит от Ваших требований и задач. Совместными усилиями мы разработаем индивидуальную концепцию, подходящую именно для Ваших производственных задач.

Читайте также:  Агентский договор на ремонт основных средств

Электронно-лучевые сварочные установки с крупногабаритными камерами EBOCAM

Электронно-лучевые сварочные установки с малогабаритными камерами PK

Электронно-лучевые перфорирующие установки EBOPULS

Электронно-лучевые поточные установки EBOCONT

Электронно-лучевые генераторы EBOGEN

Электронно-лучевая сварка

Мы становимся партнерами наших заказчиков на пути от первого запроса до пуска в эксплуатацию. Имея многолетний опыт и будучи компетентными в области современной электронно-лучевой техники, мы проконсультируем и разработаем вместе с заказчиком оптимальную концепцию установки. Мы предлагаем технологически совершенные и экономически эффективные электронно-лучевые технологии для сварки, закалки, оплавления и перфорации.

Информация предоставлена Steigerwald Strahltechnik GmbH www.steigerwald-eb.de

Отправьте заявку прямо сейчас

Почему компании заказывают у нас запасные части и оборудование?

1. Надёжный поставщик
30 лет на рынке запасных частей. Богатый опыт работы с несколькими тысячами производственных предприятий России

2. Индивидуальный подход к каждому клиенту
Лучшие условия для наших клиентов

3. Комплексные поставки
Работая с нами, Вы выбираете работу с командой профессионалов, предлагающей комплексные решения по поставке запасных частей. Поставки от небольших расходников до полностью отработанных квартальных потребностей предприятия

4. Большой склад
Тысячи наиболее запрашиваемых запасных частей в наличии на складе в Москве и в Германии

5. Поставка под заказ
Поставки запасных частей и комплектующих для оборудования напрямую от заводов-изготовителей

Источник

Электронно лучевое испарение в Москве

Электронный луч по удельной энергетической мощности, легкости управления, эффективности и локальности нагрева превосходит все известные источники, уступая лишь лазерному излучению. Однако, в отличие от лазерного, электронный луч может иметь произвольную форму. Его преимущества также в том, что он не вносит примесей в обрабатываемый материал, может работать в агрессивной или инертной среде.

В производстве широко используется электронно-лучевые испарители, дающие возможность получения тонких пленок металлов, сплавов и диэлектриков. Хорошая фокусировка электронного пучка позволяет получать большую концентрацию мощности (до 5·10 8 Вт/см 2 ) и высокую температуру, обеспечивая возможность испарения с большой скоростью даже самых тугоплавких материалов. Быстрое перемещение нагретой зоны в результате отклонения потока электронов, регулировка и контроль мощности нагрева и скорости осаждения создают предпосылки для автоматического управления процессом. В методе эффективно реализуется автотигельное испарение материала, поэтому он обеспечивает высокую чистоту и однородность осаждения.

Электронно лучевое испарение технология в Москве

Принцип действия электронно-лучевого испарителя.

В электронной пушке с поверхности катода происходит эмиссия свободных электронов и их формирование под действием ускоряющих и фокусирующих электростатических и магнитных полей в пучок, который выводится в рабочую камеру через выходное отверстие. Для подведения электронного пучка к тиглю с испаряемым материалом и обеспечения его требуемых параметров используются главным образом магнитные фокусирующие линзы и отклоняющие системы. Беспрепятственное прохождение такого пучка до объекта возможно только в высоком вакууме. Вследствие бомбардировки поверхности электронным пучком, материал нагревается до температуры, при которой происходит его испарение с требуемой скоростью. В образующийся поток помещается подложка, на которую конденсируется испаряемое вещество. Испарительное устройство дополняется средствами измерения и контроля, которые особенно важны для управления электронным пучком в процессе напыления.

Электронно лучевое испарение технология в Москве

Как правило, электронно-лучевой испаритель состоит из трех основных частей: электронной пушки, отклоняющей системы и водоохлаждаемого тигля различной емкости. Это обеспечивает непрерывную работу без добавления испаряемого материала, который, кроме того, в расплавленном состоянии не контактирует с медными стенками тигля.

В общем случае возможно использование сформованного по размеру тигля материала (безтигельное испарение) или применение совместно со специальными тиглями порошкового материала.

Электронно-лучевой испаритель размещается в камере, где поддерживается уровень вакуума 10 -4 Па, необходимый для минимизации влияния остаточного газа на эффективность прохождения электронного луча, и исключение загрязнений другими материалами структуры получаемой пленки.

Источник